“商標パクリ”がしにくくなるツールをサービス開始! 経産省が発表

商標

日本国特許庁は、世界最大規模の無料の商標データベース「TMview」に、日本の商標出願・登録に関する情報の提供を開始した。24日、経済産業省が公表した。

「TMview」は日本語検索画面が実装され、日本人ユーザーが諸外国の商標情報と一括で簡便に検索できるようになった。同省は、世界でのブランド戦略を策定する上で有効に活用されることを期待している。これについて同省は、「企業活動のグローバル展開が進む中で、企業が新たなブランドを立ち上げて世界中でビジネスを行う場合、進出先の各国において商標登録出願をして権利化しておく必要があります。その際、事前に各国における出願・登録商標の調査をする必要がありますが、各国での出願・登録商標を個別に調査するには時間とコストを要する等の問題がありました。」と背景を説明している。

実はことし9月28日、同省は画像意匠公報検索支援ツール「Graphic Image Park」のサービスが10月1日から開始されたことを公表していた。画像意匠公報検索支援ツールではイメージマッチング技術を駆使しており、著作権のある画像等を照会しやすくなった。これは画像を転用する、いわゆる“パクリ”を見付けやすくするための工夫だ。そして今回、「TMview」の充実により、商標の“パクリ”も見付けやすくなった。これまでも日本企業は、中国・韓国などのコピー大国に無断で商標や画像を使われ続けてきた。商標や画像の検索ツールを充実させることにより“パクリ”を防止・制御しやすくなったことになる。

(参照)

世界最大規模の商標データベースで国内外の情報が一括検索可能になります~商標データベース「TMview」に日本の商標情報が掲載されます~(経済産業省)
http://www.meti.go.jp/press/2015/11/20151124001/20151124001.html

“デザインパクリ”がしにくくなるツールをサービス開始! 経産省が発表(豊受真報臨時号)
http://toyouke.ldblog.jp/archives/44163578.html

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赤松 伊織
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豊受真報編集長、赤松伊織です。読者の皆様に様々な情報をご提供できるよう精進してまいります。豊受真報をご愛読くださいますよう、何卒よろしくお願い申し上げます。